拉晶過程全程自動化
在惰性氣體環境中，用石墨加熱器將硅材料熔化，
用直拉法生長無位錯單晶的設備。
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性能優勢
?大直徑設計結構：匹配大直徑單晶硅棒生長所需空間。
可采用連續加料裝置。
采用超低碳不銹鋼材料，結構穩定。
| 8英寸硅部件級單晶爐 | |||
| 型號 | ?FT-CZ1200Si | ||
| 場所 | 周圍溫度 | 15~30℃ | |
| 周圍濕度 | ≤65%（無結露，腐蝕氣體） | ||
| 潔凈度 | 一般環境水平 | ||
| 噪音 | ≤75db | ||
| 地基 | 3000kg/㎡以上 | ||
| 電源 | 額定電壓 | 3P 380VAC±10%? 50/60Hz | |
| 額定電容 | 320kVA | ||
| 額定流量 | 500A | ||
| 冷卻水 | 流量范圍 | 350~400L/min | |
| 供給壓力 | 0.3~0.4MPa | ||
| 重量 | 設備高度 | ＜8250mm? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? △? ?? | |
| 設備重量 | 約10T | ||
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△ 項數據視上爐筒高度而定，本設備數據不含磁場。
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